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罐体抛光机稀土抛光粉的大小及粒度分布
添加时间:2018-03-03

            罐体抛光机稀土抛光粉的粒度及粒度分布对抛光粉性能有重要影响。对于一定组分和加工工艺的抛光粉,平均颗粒尺寸越大,则玻璃磨削速度和表面粗糙度越大。罐体抛光机在大多数情况下,颗粒尺寸约为4μm的抛光粉磨削速度最大。相反地,如果抛光粉颗粒平均粒度较小,则磨削量减少,磨削速度降低,玻璃表面平整度提高,标准抛光粉一般有较窄的粒度分布,太细和太粗的颗粒很少,无大颗粒的抛光粉能抛光出高质量的表面,而细颗粒少的抛光粉能提高磨削速度。
           此外稀土抛光粉也可以根据其添加剂的不同种类来划分,稀土抛光粉生产技术属于微粉工程技术,稀土抛光粉属于超细粉体,国际上一般将超细粉体分为3种:纳米级(1~100nm);亚微米级(100nm~1μm);微米级(1~100μm),据此分类方法,稀土抛光粉可以分为:纳米级稀土抛光粉、亚微米级稀土抛光粉及微米级稀土抛光粉3类,通常我们使用的稀土抛光粉一般为微米级,其粒度分布在1~10μm之间,稀土抛光粉根据其物理化学性质一般使用在玻璃抛光的最后工序,进行精磨,因此其粒度分布一般不大于10μm,粒度大于10μm的抛光粉(包括稀土抛光粉)大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亚微米级稀土抛光粉,由于在液晶显示器与电脑光盘领域的应用逐渐受到重视,产量逐年提高。纳米级稀土抛光粉目前也已经问世,随着现代科学技术的发展,其应用前景不可预测,但目前其市场份额还很小,属于研发阶段。