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直线轨道式封头抛光机床的总体设计
添加时间:2018-11-30
             封头抛光机机床运动形式对化学机械抛光材料去除率及去除非均匀性的研究,得出三种主要运动形式下的的材料去除率数学模型,并进行了相应的数值分析封头抛光机进行机床结构方案设计,比较两种机床实现的难易程度,并综合考虑机床的加工精度要求进行方案确定。进行直线轨道式抛光机床的总体设计和相关主要部件的结构设计,及相关部件的选型计算,并绘制机床的三维立体图和工程图。对其中的关键部件进行结构的静力学分析,进行了强度和刚度条件的检验。抛光过程中机床运动形式对材料去除率的影响规律,从中可以看出在相同的加工条件下,弧形轨道式抛光机的材料去除率与材料去除的非均匀性均略微优于直线轨道式抛光机相差很少。因此在抛光机的结构方案设计中,优先考虑弧形轨道式抛光机,而最终采用何种运动形式还要综合比较抛光机机构实现的难易程度。构运动形式抛光头实现自旋转运动及小幅弧型摆动,并能实现抛光头大幅弧型摆动从加工位到装卸位置,完成卸片动作。
            主运动为抛光盘旋转。驱动方式抛光头、抛光盘的旋转均由交流电机驱动,无级调速抛光头动压调整由抛光头气缸实现抛光头小幅弧型摆动由异步电机带动曲柄四杆机构实现大幅弧型摆动由气缸推动实现。抛光盘支撑部件是实现抛光主运动的主要部件,其面型精度及旋转精度轴向、径向跳度直接影响到工件的加工质量。在抛光过程中要求抛光盘部件达到很高的面型精度,普通轴承的支撑很难达到要求。另外加工过程中,抛光盘需要承受很大的轴向力、径向力及翻转力矩。本方案采用高精度交叉滚子轴承支撑,并将中间连接部件减少为零,使抛光盘的回转精度直接反映轴承的回转精度,最大限度的减小中间配合误差。抛光头摆动装置主要实现两个运动在抛光过程中,与抛光头的旋转运动同步进行的小幅度摆动,属于连续运动由装卸位到加工位,实现大幅度摆动,属间歇性运动。根据以上所要求实现的运动形式,并比较实现这一运动形式的多种机构,本方案采用曲柄四连杆机构与气缸组合的结构形式。