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罐体抛光机斜轴磁流变抛光技术
添加时间:2018-10-14
            罐体抛光机随着各种小口径非球面零件的广泛应用,其加工要求也日益提高并介绍该抛光头的工作原理。利用该抛光技术对直径为6mm的碳化钨和单晶硅罐体抛光机小口径非球面分别进行斜轴磁流变抛光试验罐体抛光机试验结果表明工件的表面粗糙度Ra分别由抛光前的12.1nm和10.3nm下对于非球面抛光,产业界目前常用手工抛光和黏弹性抛光头结合游离磨料抛光。黏弹性抛光头的抛光工艺是通过抛光磨料与工件的相对运动以及抛光液的化学作用等形成光滑的表面针对目前小口径非球面零件存在抛光困难、精度和一致性差等问题,提出一种适合于小口径非球面加工的斜轴磁流变抛光技术。结合该抛光技术的基本原理和加工特点,保持抛光点处的法线在加工过程中始终与抛光头轴线成45°夹角,分析和计算小口径非球面的斜轴磁流变抛光加工路径设计一种外部为抛光旋转体内部为固定励磁装置的斜轴磁流变抛光头,不同形状、不同尺寸的工件需要制作专门的抛光工具,因此不能提供一个适应性强,高效率的光整加工方法。特别是对于微小凹非球面等复杂形状的工件难以适应,由于其加工空间狭小,加工工具难以进入抛光。因此无论是利用黏弹性抛光的抛光工艺还是手工抛光,虽然表面粗糙度可以得到改善。
          但是在加工降到抛光后的3.7nm和3.2nm,从而验证该加工技术对小口径非球面进行超精密抛光的可行性。随着光学、电子、通信、航空航天技术的飞速发展,高性能、高精度、高集成的光电系统的不断涌现,以光学玻璃、碳化硅、碳化钨、结晶硅等硬脆材料为代表的微小非球面光学元器件对光学加工技术提出了更为严格的要求。光学非球面既要有纳米级或者纳米级以下的表面粗糙度,又要具有高的形状精度,而且要求极低的亚表面损伤。小口径非球面加工目前主要采用超精密金刚石车削和超精密磨削,但是单纯地依靠超精密的磨削和车削,零件表面无法避免地存在表面缺陷层,以及亚表面损伤,从而影响工件的表面质量,这些表面和亚表面损伤必须利用游离磨粒进行抛光来消除。效率、加工精度、自动化以及适用的加工型面等方面都难以满足现代光电技术发展的要求。磁流变液在磁场作用下形成黏弹性抛光工具,可实现材料微米级甚至纳米级的抛光去除加工,能够获得纳米级甚至亚纳米级的表面粗糙度,且不产生亚表面损伤。欲获得超光滑的光学表面,应用磁流变抛光技术是一个比较好的选择。但目前磁流变抛光常采用抛光轮方式,这种方式将磁流变液通过喷嘴喷射到抛光轮上,被传送到运动轮与工件之间的间隙附近时,位于运动轮下面(或两侧)的电磁铁产生高梯度磁场使之凝聚、变硬并产生剪切力,从而去除工件材料。