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罐体抛光机稀土抛光粉的抛光工艺及抛光机制
添加时间:2018-03-10

         罐体抛光机稀土抛光粉的抛光工艺 稀土抛光粉具有独特的物理和化学性质, 用做玻璃抛光的基础原材料已有 40 多年。罐体抛光机整套玻璃抛光应具备以下 4个条件:被抛光的玻璃制品;抛光浆(抛光粉与水的混合液);保持抛光浆与玻璃直接接触的抛光平台 ;使抛光平台相对于玻璃表面运动的抛光机 , 通过一个机械装置能使玻璃制品保持一定的尺寸 。表 4 列出了几种玻璃抛光工艺及所用的研磨材料。稀土抛光粉主要用于各种玻璃的精抛光 , 精抛光是把抛光粉分散液注加到贴在旋转磨床上面的平面或者曲面的玻璃片上 , 抛光液循环使用 。
        抛光垫片的转速对抛光效率来讲至关重要 , 一般研磨透镜抛光转速在 1000~ 3000 r·min -1 , 研磨液晶玻璃则需 100 r·min -1 的转速。稀土抛光粉抛光机理稀土抛光粉之所以抛光性能好, 主要是由其含有的 CeO 2 的性质决定的, CeO 2 具有与玻璃相同或稍高的硬度(5.5 ~6.5), 而且其硬度还可根据需要在焙烧温度(800 ~1000 ℃)范围内进行细微调整;最适宜作为抛光材料的CeO 2 晶体是直径为 45nm 等轴晶系的球状体 , 这可通过调整焙烧前的化合物制得(图 2), 在混合稀土中 , 与 CeO 2 共存的La 2 O 3 和 Nd 2 O 3 也是六方晶系, 但几乎无抛光能力 , 如果加入无水硫酸盐或氧氟化物为 CeO 2 混晶 , 即通过形成 CeO 2 -La(Nd) 2 O 3 。SO 3 或者 CeO 2 -La(Nd)OF , 就可具有接近 CeO 2 的抛光能力 , 焙烧温度对抛光材料的抛光能力有很大影响, 图3 是某些稀土抛光粉焙烧温度与初始抛光速度的关。