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罐体抛光机稀土抛光粉的生产及应用
添加时间:2018-03-03

           罐体抛光机在工业领域中广泛应用抛光粉,根据不同的用途,有工业用金刚石、氧化铝、氧化铁等许多类型的罐体抛光机抛光粉,其中从十九世纪末开始大约40年间氧化铁一直被使用作为研磨平板玻璃、光学玻璃等的抛光材料。稀土抛光粉开发的历史可追溯到第一次世界大战,美国及加拿大率先使用以氧化铈为主成分的稀土抛光粉,用于高射炮的瞄准镜等精密军用机器的研磨,取代了氧化铁抛光粉,稀土抛光粉同氧化铁相比,抛光粉速度提高数倍,作业时污染少。
          抛光质量高,正是由于稀土抛光粉的开发,使玻璃的研磨表面精度得到了很大程度的改善,从而使稀土抛光粉在世界上被广泛的利用。稀土抛光粉的主要成分是CeO2,据其CeO2量的高低可将铈抛光粉分为两大类:一是CeO2含量高的价高质优的高铈抛光粉,一般CeO2/TRE-O≥80%,另一类是CeO2含量低的廉价的低铈抛光粉,其铈含量在50%左右,或者低于50%,其余由La2O3,Nd2O3,Pr6O11组成。对于高铈抛光粉来讲,氧化铈的品位越高,抛光能力越大,使用寿命也增加,特别是硬质玻璃长时间循环抛光时(石英、光学镜头等),以使用高品位的铈抛光粉为宜。