1.使用外圆抛光机时，设备研磨面绝对平行于抛光盘，轻压抛光盘，注意防止样品飞出，压力过大而产生新磨痕。为防止布面由于磨擦速度过快而导致局部磨损过快，应使其沿转盘半径方向转动。

      2.当用外圆抛光机进行抛光时，要不断添加微量悬浮剂，以便使织物抛光有一定的湿度。含水率太高会削弱抛光效果，使试样内的硬相间产生凸起，铸铁中非金属夹杂与石墨在钢中“牵尾”现象；如果湿度太小，样品由于摩擦热而会加热，润滑效果下降；磨面会失去光泽，甚至出现黑斑，轻合金会被抛出表面。

      3.为达到粗抛的目的，转盘速度要求较低，抛光时间应比刮除划痕更长，因为需要除去变形层。经过粗抛处理后，表面光洁、无光泽，在显微镜下可见均匀、细磨，精抛去除。

      4.精抛时，转盘速度可以适当提高，抛光时间适于抛伤层。精抛后的磨料表面像镜一样光亮，在显微场条件下不会出现刮痕，而衬底光照下仍可见磨痕。