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型单面研磨、罐体抛光机
添加时间:2017-05-25
1.罐体抛光机机床特点:主要气动、电器配套件均为进口.设备有五个抛光头,每个抛光头与粘片盘以气轴方式定位,开启主机对工件单面抛光时,粘片盘随主盘不断转动,达到单面抛光的目的。设备抛光头能完成上升、下降。操纵面板上安装有主机电位器、抛光头升、降、缓降按钮,以方便操作。抛光时间设定了时间继电器和压力调节显示表等操纵件,其均位于显示面板上,完成相应操作功能。抛光过程可设定正、反两种状态。调速方式采用变频调速,调速平稳,低速性能好。
2.适用范围: 罐体抛光机本机主要用于铌酸锂片、硅片、锗片、砷化钾、磷化钾、玻璃、陶瓷等片状材料的单面抛光。
3.技术参数:
1. 抛光盘直径:(外径×内径) Φ610mmx250mm
2. 抛光盘端面跳动量: ≤0.06mm
3. 抛光盘平面度: ≤0.025mm
4. 主电机: 2.2kw 1450r/min 380V
5. 最小抛光厚度: 0.20mm
6. 最大抛光件规格: Φ180mm
7. 抛光件表面平面度: 0.001mm(Φ 35mm)
8. 加工件厚度一致性: ±0.004mm(Φ 75mm)
9. 设备外形尺寸: (长×宽×高)1000mm×820mm×1900mm
10. 质量: 约1200kg