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罐体抛光机械的种类划分及加工步骤
添加时间:2017-05-05
1罐体抛光机机械抛光
罐体抛光机机械抛光(也就是所谓的物理抛光)是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法,一
般使用油石条、羊毛轮、砂纸等,以手工操作为主,特殊零件如回转体表面,可使用转台等辅助工具,表面质量 要求
高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具,在含有磨料的研抛液中,紧压在工件被加工表面上,作高
速旋转运动。利用该技术可以达到 Ra0.008 μ m 的表面粗糙度,是各种抛光方法中最高的。光学镜片模具常采用这
种方法。
2化学抛光
化学抛光(也成为腐蚀抛光)是让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解,从而得到平滑面。这种
方法的主要优点是不需复杂设备,可以抛光形状复杂的工件,可以同时抛光很多工件,效率高。化学抛光的核心问题
是抛光液的配制。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数 10 μ m 。
3电解抛光
电解抛光基本原理与化学抛光相同,即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分,使表面光滑。与化学抛光相比,可以
消除阴极反应的影响,效果较好。电化学抛光过程分为两步:
( 1 )宏观整平 溶解产物向电解液中扩散,材料表面几何粗糙下降, Ra > 1 μ m 。
( 2 )微光平整 阳极极化,表面光亮度提高, Ra < 1 μ m 。